SUZUTA 铃田(上海)科技有限公司
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DNK 科研
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本公司自创业以来,一贯坚持「****」「客户至上」,努力制造满足客户需求的产品。
其间,承蒙众多客户的悉心指导和惠顾而得以今日坚实的成长。
本公司一直以生产融合了光学・精密机械・电子控制・各软件技术的光机电一体化工程装置及液晶显示屏制造装置为主发展至今。现在,全体员工正为开发面向新一代的高新技术产品而激情高昂。

此外,我们还遵循ISO-9001的规定,进行严格的质量管理。

今后,对所有的产品,我们都将以比现在更进一步的「高品质」、「短交货期」和「低成本」为目标,并以制造可灵活满足客户需求的产品而奋进。

DNK 科研主要产品












品牌产品
  • 主要特长 除近接曝光外,还可对应接触曝光(软接触和硬接触) 可对应幅度为500mm以上的大型胶片。 采用独自的光学系统,可选择单...
  • 主要特长 采用独自的镜面・镜头光学系统,实现**均匀的照射。 配备有可设定非接触・面内均一间隙的间隙传感器和对应多层曝光的...
  • 产品信息实验・研究用曝光装置 简练设计的手动式整面单次曝光装置。 主要特长 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整...
  • 主要特长 能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。 能够对应半导体、电子零件、优异PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等...
  • 主要特长 能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。 能够对应半导体、电子零件、优异PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等...
  • 主要特长 搭载本公司开创的镜面光学系统爆光灯房(LAMP HOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。 采用本公司开创的同...
  • 主要特长 利用本公司开创的高速图像处理技术, 实现了Wafer与掩膜的高精度对位。 装载机侧和卸载机侧*多可设置两个篮具(选购项...
  • 主要特长 采用独自的平行调整机构,能够高精度地设定掩膜与Wafer间的近接间隙。 利用独自的高速图像处理技术,实现高精度的对位。...
  • 产品信息实验・研究用曝光装置 简练设计的手动式整面单次曝光装置。 主要特长 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整...
  • 产品信息实验・研究用曝光装置 简练设计的手动式整面单次曝光装置。 主要特长 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整...
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