以非接触方式测量晶圆等的研磨和抛光工艺,超高速、实时、高精度测量晶圆和树脂
产品详细信息
特点
非接触式,非破坏性厚度测量
反射光学系统(可从一侧接触测量)
高速(*高5 kHz)实时评测
高稳定性(重复精度低于0.01%)
耐粗糙度强
可对应任意距离
支持多层结构(*多5层)
内置NG数据消除功能
可进行距离(形状)测量(使用配件嵌入式传感器)*
*通过测量测量范围内的光学距离
Point1:独有技术
对应广范围的薄膜厚度并实现高波长分辨率。 采用大塚电子独有技术制成紧凑机身。
Point2:高速对应
即使是移动物体也可利用准确的间距测量,
是工厂生产线的理想选择。
Point3:各种表面条件的样品都可对应
从20微米的小斑点到
各种表面条件的样品,都可进行厚度测量。
Point4:各种环境都可对应
因为*远可以从200 mm的位置进行测量,
所以可根据目的和用途构建测量环境。
测定项目
厚度测量(5层)
用途
各种厚膜的厚度
式样
*1 : 测量条件以及解析条件不同,*小取样周期也不同。 *2 : 是产品出货基准的保证值规格,是当初基准样品AirGap约300μm和 約1000μm测量时的相对标准偏差( n = 20 ) *3 : WD50mm探头式样时的设计值 *4 : 特別式样 *5 : 薄膜测量时使用 ※CE取得品是SF-3/300、SF-3/1300
基本構成
測定例
贴合晶圆
Mapping结果 研削后300mm晶圆硅厚度