代理Otsuka大塚电子椭圆偏振光测量仪FE-300
详情介绍
产品信息
特点
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支持从薄膜到厚膜的广泛薄膜厚度
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使用反射光谱进行薄膜厚度分析
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紧凑、低成本、非接触式、无损、高精度测量
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易于设置条件和测量操作! 任何人都可以轻松测量薄膜厚度
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通过峰值巴雷法、频率分析法、非线性*小二乘法、优化法等多种膜厚度测量
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非线性*小二乘法的厚度分析算法允许光学常数分析(n:折射率、k:消光计数)
测量项目
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**反射率测量
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薄膜厚度分析(10层)
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光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)
测量对象
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功能膜、塑料
透明导电膜(ITO、银纳米线)、缓速膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护膜、硬涂层、防指纹剂等。
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半导体
化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire 等。
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表面处理
DLC 涂层、防锈剂、防雾剂等
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光学材料
过滤器、AR 涂层等
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FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有机膜、密封剂)等
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其他
硬盘、磁带、建筑材料等
原则
测量原理
Otsuka 电子采用光干涉法和内部制造的高精度分光光度计,可实现非接触式、无损和高速高精度薄膜厚度测量。 光干涉法是一种利用光学系统获得的反射率来确定光学厚度的方法,如图2所示。该光学系统使用光谱光度计获得光学厚度。 以涂覆在金属基板上的膜为例,从目标样品上方入射的光在膜表面反射(R1)。 此外,通过薄膜(R2)的光在基板(金属)或膜界面反射。 测量由光路差引起的相位偏移引起的光干涉现象,并从获得的反射光谱和折射率计算薄膜厚度的方法称为光干涉法。 有四种分析方法:峰巴雷法、频率分析法、非线性*小二乘法和优化法。
规格
手势
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测量波长范围
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300~800nm
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测量膜厚度范围
(SiO2转换)
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3nm~35μm
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点直径
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φ1.2mm
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样本大小
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φ200×5(H)mm
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测量时间
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0.1~10s以内
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电源
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AC100V±10% 300VA
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尺寸、重量
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280(W)×570(D)×350(H)mm、24kg
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其他
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参考板,食谱创建服务
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软件屏幕
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联系电话:15902189399
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产品名称: 代理Otsuka大塚电子椭圆偏振光测量仪FE-300
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