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UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-3

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UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-3UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-3UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-3 铃田（上海）科技有限公司系京都玉崎（日本）株式会社全资设立的中国子公司，自2014年成立以来，迅速崛起，专业从事国内贸易/国际贸易业务，主要经营光学设备、电子计测仪器、科学仪器、机械加工设备、环境试验设备、PC周边用品、作业工具用

详情介绍

	半導体製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に残る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接触で除去する装置です。基板イダメージを与えずに表面の洗浄と改質が出来ます。		HMW-615N
		VUM-3073F

◆ 特　徴

1．	基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い独自の低圧ＵＶランプを搭載しています。
2．	基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3．	基板はあまり加熱されません。
4．	オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。

◆ 仕　様