韩国UNILAM，UV边缘曝光设备，UEX-L22S-SQ； 特点： 适合通过高照度Square Beam或者Hex Beam的形成扫描曝光的可以定电力控制及通过光调节型快门可以控制光量。 应用： •LCD边缘，晶圆（Wafer）边缘曝光。 规格表：