UV表面光清洗机,PM20036C

适用范围

液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料

主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等

使用紫外线清洗时要注意以下几个方面：（1） 污垢中的无极成分或处理后的灰分会残留在物体表面，因此需要采用相应的办法进一步清洁，如加装真空除尘或与超声波干洗配套使用。（2）处理时，当清洗对象表面与照射光源距离稍远时，产生的臭氧会自动分解失去作用，一定要注意清洗表面与光源的距离，也就是注意平台或传送带上工件的高度或厚度。（3）这种处理方法要求紫外线能透过清洗对象表面，对有立体结构的清洗对象不太适合，只能清洗表面结构的物体。（4）由于需防止臭氧扩散对人体造成损害，需要在封闭装置中进行清洗。（5）由于臭氧是通过氧化反应去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用这种方法处理。