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产品资料

南京供应HORIBA崛场在线监控椭偏仪UVISEL Plus In-Situ

型号: UVISEL Plus In-Situ
简介:

南京供应HORIBA崛场在线监控椭偏仪UVISEL Plus In-Situ UVISEL Plus在线监控椭偏仪可以很容易的安装在各类反应腔(PECVD、MOCVD、磁控溅射、蒸镀、ALD和MBE),实时监控薄膜沉积或刻蚀过程。UVISEL Plus在线椭偏仪结合了速度快、灵敏度高、动态范围宽和准确等优点,使其能够在原子层水平监控沉积/刻蚀,即使过程速度比较快也可实现。

详情介绍

南京供应HORIBA崛场在线监控椭偏仪UVISEL Plus In-Situ国内各区域供应

  • 高速、准确
  • 完整集成了实时测量、建模和报告软件包
  • 便于在线和离线间切换

 

可获得的信息

  • 薄膜厚度
  • 光学常数(n,k)
  • 材料组成
    • 光谱范围:190-885 nm,可扩展至 190-2100 nm
    • 光源:75W氙灯或150W氙灯
    • 探测系统:单点或实时光谱采集使用高灵敏度,宽动态范围的PMT探测器和扫描单色仪,原位监控薄膜沉积/蚀刻
    • 光斑尺寸@300:50μm , 100μm & 1mm
    • 机械适配器:CF35或KF40法兰

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