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产品资料

线扫描测厚仪离线式 Otsuka大冢

型号:
简介:

是一种可以方便地离线检测面内膜厚不均匀性的设备,用于膜的研发和质量控制的抽检。 可以高速且高精度地测量整个表面。

详情介绍
  • 可检测薄膜等面内膜厚不均
  • 可以高速高精度地测量整个表面
  • 只有专门从事膜厚测量的制造商才能提供的**支持
  • 通过光谱测量进行高精度膜厚测量
  • 硬件和软件的原创设计
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