OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理 OTSUKA大塚电子铃田（上海）科技有限公司 FE-5000除了可实现高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱外， FE-5000还可以通过实施自动可变测量角度机制来处理所有类型的薄膜。 除了传统的旋转分析仪方法外，通过安装自动延迟板分离机构提高了测量精度。

铃田科技代理OTSUKA大塚电子  FE-5000

• 半导体晶片
  栅极氧化薄膜、氮化物薄膜
  SiO₂，Si x Oy，SiN，SiON，SiNx，Al₂O₃罪_xO_y，多晶硅，硒化锌，BPSG，TiN
  光刻胶光学常数（波长色散）
• 化合物半导体
  铝_x加语_（1-x）作为多层，非晶硅
• FPD
  取向膜
• 各种新材料
  DLC（类金刚石碳）、超导薄膜、磁头薄膜
• 光学薄膜
  TiO₂，SiO₂，防反射膜
• 在 G 线 （436nm）、H 线 （405nm） 和 I 线 （365nm）
  等波长下进行光刻 N，K 评估

• 椭圆参数 （tanψ， cosΔ） 测量
• 光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析
• 膜厚分析

• 型	FE-5000S	FE-5000
  样本量	*大 100x100mm	*大 200x200mm
  测量方法	旋转分析仪法*1
  测量膜厚度范围（nd）	0.1纳米~1微米
  入射（反射）角度范围	45~90°	45~90°
  入射（反射）角度驱动系统	自动标志杆驱动系统
  入射光斑直径*2	φ2.0	φ1.2苏普*3
  tanψ 测量精度	±0.01以下
  cosΔ 测量精度	±0.01以下
  薄膜厚度的可重复性	0.01%以下*4
  波长范围*5	300~800nm	300~800nm
  测量光源	高稳定性氙气灯*6
  舞台驱动系统	手动	手动/自动
  装载机支持	坏	差强人意
  尺寸、重量	650（宽）×400（深）×593（高）毫米 50公斤	1300（宽）×890（深）×1750（高）毫米 350公斤*7

  *1 可以驱动偏光片，可以安装和拆卸对盲区有效的减速板。
  *2 因短轴和角度而异。
  *3 微光斑支持（可选） *4 此值是使用 VLSI 标准 SiO2 薄膜 （100 nm）
  时的值。
  *5 选择自动阶段时的值。