配备获得砖利的无氯气化器，可形成各种有机金属化合物。 ● 4种MO原料分别通过流量控制同时气化 ， 因此成分比控制简单 。 薄膜厚度均匀性和嵌入性可进行良好的沉积。
金属氧化膜： SBT/PZT/STO/BLT/BaTiO3/HfAlxOy/PGO/RuOx/IrOx/SRO/VO2/IGZO/BiOx 等 ·金属氮化膜：TaN/TiN/Ta3N5/Nb3N5/AlN 等 ·金属（化合物）膜：BiT/GST/SBTNb/Ti/Ta/Ru/Ir/B等
• 使用无氯气化器连续沉积 ，易于膜组成控制 ，薄膜厚度均匀性好，植入性好