产品资料

国内销售AMAYA天谷制作所玻璃基板成膜装置

型号：

简介：

● 低温（150~300°C）处理 ● 形成高品质的SiO2膜低应力、无等离子体损伤、小颗粒 • 降低导入和维护成本小占地面积、无需真空 · 等离子体处理 ● 价格低廉气相沉积设备

详情介绍

4.5 代玻璃基板沉积设备，支持刚性和柔性设备，如 FPD。

搭载了2台成膜有效宽度760mm的气头，采用吸附式加热台，
实现了温度控制性±3%以内。

4.5 代玻璃基板可在 250°C 下以 25 片/小时或更高的吞吐量沉积 100nm SiO2 膜，
确保薄膜厚度均匀性在 10% 以内。

薄膜厚度均匀性

±10%

支持的晶圆尺寸

4.5 代

气体种类

SiH4, O3, PH3, B2H6

沉积温度

150～300℃

设备尺寸

1300mm(W) x 7350mm(D) x 2000mm(H)

气头

搭载2个成膜有效宽度760mm气头

苏州代理AMAYA天谷制作所玻璃基板成膜装置

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