产品资料

AMAYA天谷制作所小型生产和开发的常压 CVD 设备 D501

型号：

简介：

• 批量常压 CVD 设备，用于在大型托盘中装载多个晶圆气相沉积设备

详情介绍

这是一种批量式气相沉积设备
常压CVD装置，在大型托盘中装载多个晶圆，托盘在分散头下往复沉积。

可对应异形基板。

设备尺寸紧凑，占用空间小。

薄膜厚度均匀性

取决于薄膜厚度和薄膜类型

支持的晶圆尺寸

以可加热区域为准

气体种类

SiH4, O2, PH3, B2H6, N2
(TEOS, TEB, TMOP, O3， TMA 可选）

沉积温度

350～450℃ (200～350℃)

生产力

―

设备尺寸

1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H)

加热机构

电阻加热

卸载

手动方法

分散头
（气体喷嘴）

A63 头

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