产品资料

代理AMAYA天谷制作所连续常压 CVD设备A6300S

型号：

简介：

AMAYA天谷制作所连续常压 CVD设备A6300S ●6英寸~120张/小时吞吐量 ●采用SiC托盘的重金属污染对策气相沉积设备

详情介绍

这是一种连续常压
CVD设备，可满足小直径晶圆大规模生产设备的需求，每小时可产生120片吞吐量。

该设备通过非常集中的
输送系统实现大规模生产，同时降低成本，从而实现了广泛的沉积区域。

SiC 托盘的采用使重金属污染不难发生。此外，由于热量，工艺性能
稳定，老化较少。

标准配备托盘自动更换功能，可缩短操作员的**性和维护时间。
此外，通过采用自动提升头底座的机制，可以轻松进行
清洁。

薄膜厚度均匀性

≦±4.0%

支持的晶圆尺寸

到 6 英寸

气体种类

SiH4, O2, PH3, B2H6, N2

沉积温度

350～430℃

生产力

~120张/小时

设备尺寸

1500mm(W) x 2850mm(D) x 2000mm(H)

加热机构

电阻加热

卸载

机器人CtoC输送

分散头
（气体喷嘴）

A63 头（标准 2 头）

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气相沉积设备