SUZUTA 铃田(上海)科技有限公司
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产品资料

代理AMAYA天谷制作所高生产率连续常压CVD设备 AMAX800V

型号:
简介:

● 8英寸/小时100张高通量 ●采用SiC托盘,可应对重金属污染, 实现长期稳定工艺 ●提高维护性 气相沉积设备

详情介绍
特点

通过改进输送机制实现高吞吐量。

AMAX 型分散
头中的 SiH,经过优化,可在低温常压下更有效地进行热化学反应
4, PH3, B2H6和 O2分散后混合和表面反应的后混合方法,
提供优异的薄膜厚度均匀性和杂质浓度均匀性。

SiC 托盘的采用使重金属污染不难发生。 此外,由于热量,工艺性能
稳定,老化较少。

标准配备托盘自动更换功能,可缩短操作员的**性和维护时间。
此外,通过采用自动提升头底座的机制,可以轻松进行
清洁。

性能
薄膜厚度均匀性 ≦±3.0%
支持的晶圆尺寸 (5 英寸)、6 英寸和 8 英寸
气体种类 SiH4, O2, PH3, B2H6, N2
沉积温度 350~430℃
生产力 ~100张/小时
主要规格

设备尺寸 1460mm(W) x 3830mm(D) x 2250mm(H)
加热机构 电阻加热
卸载 机器人CtoC输送
分散头
(气体喷嘴)
AMAX 头(标准 3 头)
气相沉积设备气相沉积设备

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