PD-220NL 是一种负载锁定设备，基于 PD-220 系列等离子 CVD 设备的经验而开发，该设备具有丰富的交付记录。 该装置设计紧凑，但基板有效直径为±220mm，通过托盘输送，可同时形成多个小直径晶圆。 我们旨在形成各种硅薄膜（SiO+、SiN 等），可处理从尖 端研究到大规模生产的各种应用。

虽然设计紧凑，可
沉积到 ±8 英寸晶圆上，但样品为 ±3 英寸晶圆，可同时沉积 5 个晶圆，4 英寸晶圆可同时形成 3 个薄膜，1 个 ±8 英寸晶圆可以沉积。

配备负载
锁定室，可实现稳定的过程。

可以形成
氮化硅膜、氧化硅膜和非晶硅膜，形成各种硅基薄膜。