AD-230LP 是一种ALD（原子层沉积）设备，可控制原子级薄膜厚度。 有机金属原料和氧化剂交替供应到反应室，仅通过表面反应形成。 该装置具有负载锁定室，不会向大气开放反应室，因此可实现出色的可重复性沉积。

• 原子可以更均匀地控制层。
• 可对高纵横比结构进行正式成膜。
• 出色的平面内均匀性和可重复性，可实现稳定的工艺。
• 独特的反应室结构优化了原料的气体管路和气流，从而抑制了颗粒。
• 电容耦合等离子体 （CCP） 方法*大限度地减少了反应室体积，缩短了气体净化时间，并加快了一个循环。